本课程的总体目标：让学生了解与掌握材料结构和物理分析方法，尤其是材料的显微组织、结构、微区成分和力学、光学特性的分析方法。 本课程的教学目的：通过学习，使学生能够掌握X射线分析的实验技术，从而能够正确进行材料物相分析和应力测定以及材料的光学响应特性，了解晶体材料X形貌技术的应用特点；学会分析和标定电子透射和高分辨图样，了解EDX和EELS的使用方法，以及先进的X射线荧光光谱和X射线拉曼光谱技术。

本课程主要介绍材料的X-射线分析技术和电子显微分析技术，以课堂讲解为主要的教学形式。课程授课内容主要包括：X射线的性质和获得；X射线与固体的相互作用；X射线荧光光谱和X射线拉曼光谱；晶体衍射基础；倒易点阵；X射线衍射几何原理；晶体衍射强度；X射线衍射技术中的劳厄法、粉未法、旋转晶体法；X射线衍射技术应用中的物相鉴定；应力测定； X-射线形貌学概论；形貌学实验技术中的取向衬度形貌技术、透射投影形貌术、反射形貌术；同步辐射技术原理；同步辐射应用中的X射线吸收精细结构、X射线吸收的近边结构电子成像理论；电子衍射基本理论；衍射花样标定；相间的取向关系；衍射衬度理论；高分辨电子显微图像的解释；高分辨技术的应用；分析电镜技术中的电子与固体的相互作用；X射线能谱；电子能量损失谱。 教学重点在于X-射线的衍射分析在物相鉴定和残余应力的评价以及电子透射花样的标定和高分辨图像的标识。教学难点在于电子衍衬理论。

1、周玉，武高辉，《材料分析测试技术》，哈尔滨工业大学出版社，1998年 2、 许顺生，冯端主编，《X射线衍衬貌相学》，科学出版社，1987年 3、 朱静，叶恒强等，《高空间分辨分析电子显微学》，科学出版社，1987年 4、P. Hirsch, et al, Electron Microscopy of Thin crystals, Robert E. Krieger Publishing Co. Inc., Huntington, New York, 1965