杨国强，男，汉族，1963年11月出生于湖北黄石，1985年毕业于北京大学获得学士学位，1991年毕业于中国科学院感光化学研究所，获得博士学位。曾在日本京都大学、法国上阿尔萨斯大学、美国伊利诺伊大学香槟分校进行博士后研究工作。1999年6月回国独立开展研究工作。曾任中国科学院光化学重点实验室主任，分子反应动力学重点实验室主任、中国科学院化学所科技处处长、所长助理、副所长；中国化学会秘书长，第九届全国科协委员，亚洲大洋洲光化学理事会副理事长。

现任中国科学院大学副校长、化学所二级研究员、中国化学会第一届监事会监事、光化学专业委员会副主任、高压化学专业委员会主任；中国感光学会光刻材料与技术专业委员会主任；国际光化学系列会议国际组委会委员；亚洲大洋洲光化学理事会理事；J. Photochem. Photobiol.A: Chem. 助理主编，J.Photochem. Photobiol. C 编委、《影像科学与光化学》、《化学通报》、《高压物理学报》编委。

在光功能化合物和功能材料的分子设计、材料合成、性能及其作用机理方面开展研究工作，在我国首先开展了极端高压条件下光化学和光功能材料性质研究；发现并证明了三芳基硼化合物的双激发态荧光发射性能，提出了利用三芳基硼化合物作为新型多功能荧光探针的作用机理和应用开发；在我国首先开展了基于分子玻璃单分子树脂的超高分辨光刻胶研究，研发出了用于极紫外（EUV）和ArF光刻(193nm)的超高分辨光刻胶，正在进一步开展产业化应用研发；开发了气凝胶的新型制备工艺和应用。在国际重要学术刊物上发表研究论文270余篇；申请发明专利63项，已经获得授权发明专利44项（包括日本专利一项、美国专利一项、PCT专利二项）。